Найден новый метод получения наноотверстий в тонких пленках

Сотрудники Токийского столичного университета в Японии разработали новый метод нанесения наноотверстий на тонкую пленку из оксидов металлов, настраивая характери положения перфорации. Сообщается, что такие материалы могут пригодиться для фотокатализа химических реакций или для создания фильтров и датчиков. Информация была опубликована в журнале Electrochemistry Communications.

Авторы новой работы модифицировали изобретенный ранее метод создания упорядоченных массивов наноотверстий в пленках из оксида алюминия. Используя это вещество, ученые вытравили массив наноотверстий на различных переходных металлах, включая кобальт, вольфрам и железо. Наблюдение за анодированием выпуклых поверхностей продемонстрировало образование двумерных оксидов металлов с чередующимися наноотверстиями на поверхности.

Ученые отметили, что новый способ, в отличии от предыдущего метода, позволил настроить расстояние между отверстиями при помощи изменения свойств маски из оксида алюминия. Такая технология обладает большей универсальностью и подходит для широкого спектра нанопористых материалов.

Ранее «Центральная Служба Новостей» сообщала об обнаружении у раковых клеток способности временно входить в «спящий режим» для противостояния химиотерапии.